產品分類PRODUCT

我們相信好的產品是信譽的保證！

儀器儀表

壓片機庫侖計耦合器衰減器電容器過濾器其他儀器配件檢測儀夾持器套件接頭聯軸器夾持器壓電加速度計接近傳感器加熱器干燥器真空手套箱控制器離子源真空法蘭壓力儀表

查看全部

相關文章ARTICLES

做良心企業創誠信品牌

使用圓偏振光譜儀進行生物分子結構分析

2024-05-22

如何利用黏彈性測量流變儀提高研究效率？

2025-01-20

飛秒瞬態吸收光譜儀在化學反應動力學中的應用說明

2025-03-17

工業在線粘度計的安裝調試和現場應用指南

2023-11-18

如何通過圓二色光譜儀分析分子構象變化？

2025-05-20

旋轉流變儀與溫度、剪切速率關系的研究與優化方法

2024-01-15

詳細介紹

品牌	其他品牌	價格區間	面議
產地類別	進口	應用領域	綜合

VacTechniche真空鍍膜系統沉積和熱蒸發器

英國VacTechniche,真空鍍膜系統,濺射鍍膜機,PLD-T 脈沖激光器，沉積和熱蒸發器

PLD-T 脈沖激光器沉積和熱蒸發器

SEM/TEM 樣品制備 Vac Techniche

多功能脈沖激光沉積和熱蒸發器系統 – PLD-T 是一種高真空薄膜沉積系統，可通過脈沖激光沉積和熱蒸發技術沉積不同的材料。它可以將復雜材料和晶體結構沉積到基板上，只需很少的設置。

脈沖激光沉積技術可實現高效的非熱燒蝕，并保持靶材的化學計量。通過應用這種方法，它可以沉積氮化物、氧化物、超晶格、聚合物和復合材料等材料。

PLD-T
熱蒸發源
（舟/籃/盤管）

脈沖激光沉積系統可配備三個獨立的熱阻熱蒸發源。蒸發源支架的良好設計不會使污染物從源材料轉移到其他材料。源架的長度可在 5~10 cm 范圍內調節，滿足客戶要求。

DCT-Desktop 碳素涂布機

轉速可調的目標機械手
3 個熱源和特殊的饋入件
用于實時厚度測量的石英晶體監測系統（精度為 1 nm）
直觀的觸摸屏，用于控制涂層過程和快速數據輸入
等離子清洗
用戶友好型軟件，可通過網絡更新
配備旋轉樣品架
配備電子快門
配備機動船選擇
500 °C 基板加熱器
兩年保修

VacTechniche真空鍍膜系統沉積和熱蒸發器

產品咨詢

上一篇：VacTechniche真空鍍膜系統,,DTE-臺式熱蒸發
下一篇：DST1-300VacTechniche渦輪泵浦濺射手套箱

VacTechniche真空鍍膜系統沉積和熱蒸發器

PLD-T 脈沖激光器沉積和熱蒸發器

多功能脈沖激光沉積和熱蒸發器系統 – PLD-T 是一種高真空薄膜沉積系統，可通過脈沖激光沉積和熱蒸發技術沉積不同的材料。它可以將復雜材料和晶體結構沉積到基板上，只需很少的設置。

脈沖激光沉積技術可實現高效的非熱燒蝕，并保持靶材的化學計量。通過應用這種方法，它可以沉積氮化物、氧化物、超晶格、聚合物和復合材料等材料。

PLD-T
熱蒸發源
（舟/籃/盤管）

DCT-Desktop 碳素涂布機

轉速可調的目標機械手

3 個熱源和特殊的饋入件

用于實時厚度測量的石英晶體監測系統（精度為 1 nm）

直觀的觸摸屏，用于控制涂層過程和快速數據輸入

等離子清洗

用戶友好型軟件，可通過網絡更新

配備旋轉樣品架

配備電子快門

配備機動船選擇

500 °C 基板加熱器

兩年保修

留言框

產品：

您的單位：

您的姓名：

聯系電話：

常用郵箱：

省份：

詳細地址：

補充說明：

驗證碼：

VacTechniche真空鍍膜系統 沉積和熱蒸發器

PLD-T 脈沖激光器沉積和熱蒸發器

多功能脈沖激光沉積和熱蒸發器系統 – PLD-T 是一種高真空薄膜沉積系統，可通過脈沖激光沉積和熱蒸發技術沉積不同的材料。它可以將復雜材料和晶體結構沉積到基板上，只需很少的設置。

脈沖激光沉積技術可實現高效的非熱燒蝕，并保持靶材的化學計量。通過應用這種方法，它可以沉積氮化物、氧化物、超晶格、聚合物和復合材料等材料。

PLD-T熱蒸發源（舟/籃/盤管）

DCT-Desktop 碳素涂布機

轉速可調的目標機械手

3 個熱源和特殊的饋入件

用于實時厚度測量的石英晶體監測系統（精度為 1 nm）

直觀的觸摸屏，用于控制涂層過程和快速數據輸入

等離子清洗

用戶友好型軟件，可通過網絡更新

配備旋轉樣品架

配備電子快門

配備機動船選擇

500 °C 基板加熱器

兩年保修

留言框

產品：

您的單位：

您的姓名：

聯系電話：

常用郵箱：

省份：

詳細地址：

補充說明：

驗證碼：

VacTechniche真空鍍膜系統沉積和熱蒸發器

PLD-T
熱蒸發源
（舟/籃/盤管）